Универсальная компактная трехкамерная установка разработана для выращивания широкого спектра полупроводниковых соединений А3В5 и широкозонных соединений А2В6, а также в специальном исполнении — А3N, выполнена с учетом последних достижений в области молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводников в данных системах материалов. Областью применения установки является широкий спектр НИР и НИОКР по приборной тематике, основанной на материалах А3В5/А2В6 и A3N.