Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде Установка STE RTA100 ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Образец загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита, под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп. Конструкция установки позволяет обеспечить высокую однородность нагрева полупроводниковой пластины, имеющей неоднородное поглощение инфракрасного облучения по поверхности (например, со сформированной топологией).