Утонение сапфировых подложек ф50,8 и ф76,2 мм методом глубокой шлифовки-полировки

до 100 мкм

до 45 мкм


Утонение структур AlGaN/SiC и подложек SiC ф50,8 и ф76,2 мм методом глубокой шлифовки-полировки до 100 мкм


Утонение подложек GaAs до 100 мкм методом химико-механической полировки:

ф50,8 мм

ф76,2 мм

ф100 мм