Фильтры

Продукция

Дрель ударная ДУ-13/580Т

Поставщик: АО "ИНТЕРСКОЛ"

Сетевая ударная дрель ДУ-13/580Т

Дрель безударная Д-16/1050Р2

Поставщик: АО "ИНТЕРСКОЛ"

Безударная односкоростная дрель ИНТЕРСКОЛ Д-16/1050Р2

Дрель безударная Д-11/540Т

Поставщик: АО "ИНТЕРСКОЛ"

Сетевая безударная дрель предназначена для сверления отверстий в различных материалах.

Дрель безударная Д-10/350Т

Поставщик: АО "ИНТЕРСКОЛ"

Сетевая безударная дрель предназначена для сверления отверстий в материалах типа металла, дерева, пластика или подобных.

Установка быстрой температурной обработки STE RTP150

Поставщик: ЗАО "НТО"

Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме, управляемой газовой среде, в том числе восстановительной или окислительной атмосфере Специальная конструкция камеры, выполненной из алюминия, позволяет проводить процессы температурной обработки при экстремально высоких температурах (до 1300°С) в сочетании с длительными временем отжига (до 60 мин). Установка ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 150 мм.

Установка быстрой температурной обработки STE RTA100

Поставщик: ЗАО "НТО"

Установка для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в инертной среде Установка STE RTA100 ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины составляет 100 мм. Образец загружается в камеру вручную через боковой фланец быстрого доступа и устанавливается на тепловыравнивающий столик из пиролитического графита, под которым находится нагреватель на основе системы линейных галогеновых ламп. Конструкция установки позволяет обеспечить высокую однородность нагрева полупроводниковой пластины, имеющей неоднородное поглощение инфракрасного облучения по поверхности (например, со сформированной топологией).

Установка магнетронного и терморезистивного испарения STE MS900

Поставщик: ЗАО "НТО"

Новая универсальная система для осаждения многокомпонентных покрытий в вакууме методами магнетронного и резистивного испарения на групповую партию пластин Система позволяет проводить процессы напыления многокомпонентных покрытий (металлов, резистивных слоев, пленок ITO, диэлектрических и проводящих пленок в одном цикле и др.) при температуре на подложке до 700°С. Установка предназначена как для проведения активных исследований, так и для решения производственных задач. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе: 150мм – 5 шт., до 30 пластин 60х48 мм. Мишени диаметром 8’’ обеспечивают однородность ±2% на диаметре напыления 100 мм,а магнитное крепление позволяет легко их заменять. Оптимизированный высоковакуумный реактор из нержавеющей стали, состоит из неподвижного блока источников и подъемной верхней крышки. Обновленная эргономичная конструкция реактора комплектуется механизмом подъема для удобного проведения регламентных работ с блоком испарителей.

Автоматизированная система электронно-лучевого напыления STE EB71

Поставщик: ЗАО "НТО"

Установка STE EB71 представляет собой полностью автоматизированную станцию электронно-лучевого напыления высококачественных тонкоплёночных композиций в сверхвысоком вакууме. Система разрабатывалась в идеологии “lab to fab” и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. В конструкцию также заложена возможность комплексирования и встраивания в состав роботизованных вакуумно-технологических кластерных систем. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе 3х3” или 6х2”, которые устанавливаются на держателе со сферическим профилем, учитывающим особенности процесса “lift-off”.

STE35 Трехкамерная система молекулярно-лучевой эпитаксии для роста материалов A3B5 и A3N

Поставщик: ЗАО "НТО"

STE35 представляет собой современную технологическую платформу для прецизионного выращивания эпитаксиальных слоев на подложках диаметром до 100 мм, а также трех подложках диаметром 2” в одном процессе. Областью применения установки МЛЭ STE35 являются фундаментальные и прикладные научные исследования, опытно-конструкторские работы и мелкосерийное экспериментальное производство эпитаксиальных структур в режиме “lab to fab” в системах материалов InAlGaAsSb или InGaAlN в режиме РА-МВЕ. Система STE35 создана на основе более чем 25-летнего опыта наших специалистов в области разработки и производства молекулярно-лучевой эпитаксии.

Универсальная компактная система молекулярно-лучевой эпитаксии STE75

Поставщик: ЗАО "НТО"

Универсальная компактная трехкамерная установка разработана для выращивания широкого спектра полупроводниковых соединений А3В5 и широкозонных соединений А2В6, а также в специальном исполнении — А3N, выполнена с учетом последних достижений в области молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводников в данных системах материалов. Областью применения установки является широкий спектр НИР и НИОКР по приборной тематике, основанной на материалах А3В5/А2В6 и A3N.