Новая универсальная система для осаждения многокомпонентных покрытий в вакууме методами магнетронного и резистивного испарения на групповую партию пластин Система позволяет проводить процессы напыления многокомпонентных покрытий (металлов, резистивных слоев, пленок ITO, диэлектрических и проводящих пленок в одном цикле и др.) при температуре на подложке до 700°С. Установка предназначена как для проведения активных исследований, так и для решения производственных задач. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе: 150мм – 5 шт., до 30 пластин 60х48 мм. Мишени диаметром 8’’ обеспечивают однородность ±2% на диаметре напыления 100 мм,а магнитное крепление позволяет легко их заменять. Оптимизированный высоковакуумный реактор из нержавеющей стали, состоит из неподвижного блока источников и подъемной верхней крышки. Обновленная эргономичная конструкция реактора комплектуется механизмом подъема для удобного проведения регламентных работ с блоком испарителей.