Фильтры

Продукция

Установка проявления негативного фоторезиста УПФ-2

Поставщик: АО "Российская электроника"

Установка предназначена для проявления позитивного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.

Установка нанесения позитивного фоторезиста УНФ-1

Поставщик: АО "Российская электроника"

Установка предназначена для нанесения позитивного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.

Установка нанесения негативного фоторезиста УНФ-2

Поставщик: АО "Российская электроника"

Установка предназначена для нанесения негативного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.

Технохимическое оборудование для полупроводникового производства

Поставщик: АО "Российская электроника"

Комплект оборудования для технохимической обработки подложек в производстве микрополосковых плат в составе: Линия химического осаждения золота; Линия подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста на проводниковые слои и перед золочением; Линия травления резистивных слоев; Линия химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев; Линия предварительной химической подготовки подложек перед напылением.

Лабораторная информационная система "ЛинтеЛ ЛИС"

Поставщик: АО БСКБ "Нефтехимавтоматика"

Лабораторная информационная система «ЛинтеЛ ЛИС» - программное обеспечение для лабораторий контроля качества, предназначенное для автоматизации деятельности лаборатории с целью повышения качества работ и сокращения затрат на испытания.

ЛинтеЛ АТВ-21 Аппарат автоматический для определения температуры вспышки в закрытом тигле

Поставщик: АО БСКБ "Нефтехимавтоматика"

ЛинтеЛ® АТВ-21 Аппарат автоматический для определения температуры вспышки в закрытом тигле Реализованные стандарты ГОСТ Р ЕН ИСО 2719-2008 ГОСТ ISO 2719-2013 ГОСТ 6356-75 ISO 2719:2016 ASTM D93–18 ГОСТ 9287-59

ЛинтеЛ АТВО-21 Аппарат автоматический для определения для определения температуры вспышки нефтепродуктов в открытом тигле (с газовым поджигом)

Поставщик: АО БСКБ "Нефтехимавтоматика"

ЛинтеЛ АТВО-21 Аппарат автоматический для определения для определения температуры вспышки нефтепродуктов в открытом тигле (с газовым поджигом) Метод Кливленда Реализованные стандарты ГОСТ 4333-2014 ГОСТ 33141-2014 ASTM D-92 ISO 2592-73

ЛинтеЛ КИШ-20М4 Аппарат автоматический для определения температуры размягчения нефтебитумов

Поставщик: АО БСКБ "Нефтехимавтоматика"

ЛинтеЛ КИШ-20М4 Аппарат автоматический для определения температуры размягчения нефтебитумов Реализованные стандарты ГОСТ 11506-73 ГОСТ 33142-2014

Установка получения гипохлорита натрия

Поставщик: АО "Российская электроника"

Электролизная установка УР.Р-8-2 предназначена для приготовления и дозирования раствора гипохлорита натрия , получаемого из раствора поваренной соли путем электролиза. Гипохлорит натрия подается в блок микрофильтров. Доза по активному хлору 3 мг/л. При дозе 3 мг/л необходимо 75 л раствора гипохлорита натрия в сутки.

Алмазные диски

Поставщик: АО "Российская электроника"

Малый износ и высокая режущая способность. Высокая жесткость. Широкий спектр обрабатываемых материалов. Возможны различные концентрации алмазных зерен для достижения наилучшего качества резки.